“架桥—铺展”机理：出发点为由于聚硅氧烷自身较低的张力，使其可以在液膜上铺展。消泡剂液形状不稳定是这一机理的核心所在，但是这种理论解释不了单质的聚硅氧烷与混合物（聚硅氧烷和固体离子）作为消泡剂时，两者之间存在的消泡差异。